WIRE — Европейската комисия одобри германска държавна помощ в размер на 659 млн. евро за изграждането на четири първи по рода си производствени съоръжения по веригата на стойността на полупроводниците. Мярката цели да укрепи позициите и стратегическата автономност на Европейския съюз в сектора в съответствие с целите на инициатива за повишаване на европейската конкурентоспособност в областта на производството на чипове и политическите насоки на Европейската комисия за периода 2024–2029 г., съобщиха днес от ЕК на официалната си страница. Германия ще предостави преки безвъзмездни средства за изграждането на четири производствени обекта, финансирани съвместно от федералния бюджет и властите на съответните федерални провинции. Най-голяма част от помощта – 353 млн. евро – е предназначена за "Елемент 3-5" (Element 3-5 GmbH) за изграждането на предприятие в Баесвайлер, провинция Северен Рейн-Вестфалия, за производство на епитаксиални пластини от силициев карбид. "Вишей Силиконикс Ицехое" (Vishay Siliconix Itzehoe GmbH) ще получи 214 млн. евро за завод в Итцехое, провинция Шлезвиг-Холщайн, за производство на силициеви силови транзистори. За "Кей Ел Ей-Тенкор Ем Ай И" (KLA-Tencor MIE GmbH) са одобрени 74,4 млн. евро за предприятие във Вайлбург, провинция Хесен, което ще произвежда усъвършенствано оборудване за оптичен контрол на наслагването на слоеве и метрология на тънки филми. "КЕТЕК" (KETEK GmbH) ще получи 17,9 млн. евро за производствена база в Мюнхен, провинция Бавария, за изработването на два високоспециализирани вида чипове – силициеви дрейфови детектори (Silicon Drift Detectors – SDD) и графенови входни прозорци за радиация (Graphene Radiation Entry Windows – GREW).
"We aggregate wires to encourage regional discovery, sending readers directly back to the original source to explore full coverage."
This is a normalized overview of the breaking feed event. The complete, official release detailing all points, background context, and statements remains hosted by the original publisher.